D. Toutes résines photosensibles (résists) optimisées pour des technologies de formation d ' images de surface, notamment résines photosensibles à `silylation ' . 優(yōu)化用于表面成像技術(shù)的所有抗蝕劑,包括甲硅烷基化的抗蝕劑。
Alcools de N-FOSE, silanes, alcoxylates, esters d ' acide gras, adipates, uréthanes, acrylates, polyesters, copolymères Traitement N-FOSE乙醇、硅烷、烷氧基化物、脂肪酸酯、己二酸、聚氨酯、丙烯酸酯、聚酯共聚物
Les techniques de `silylation ' sont des procédés qui comportent l ' oxydation de la surface de la résine photosensible pour améliorer les performances de développement humide ou à sec. 甲硅烷基化技術(shù)被定義為利用抗蝕劑表面的氧化作用加強濕式和干式顯影性能的過程。